电子级超纯水要求有哪些？

在电子元件制造的高要求领域，我们的电子级超纯水机将成为您的得力助手。这款超纯水机采用先进的多级过滤技术和离子交换工艺，能够高效去除水中的颗粒杂质、金属离子、有机物以及微生物等，为您提供电阻率高达 18.2 MΩ・cm（25℃）的超纯水。

使用成都渗源制造的电子级超纯水机，您将彻底告别因水质问题而导致的电子元件物理性损伤和化学性干扰。无论是在光刻工艺中配制光刻胶，还是在蚀刻和清洗过程中，超纯水都能确保高精度制程的顺利进行，有效提升产品的良品率和性能稳定性。

电阻率：这是衡量纯水纯度的关键指标之一，一般要求电阻率达到 18.25 MΩ・cm（25℃）及以上。电阻率越高，说明水中的导电离子越少，水的纯度越高。对于一些对水质要求极高的电子工艺，如集成电路制造，可能要求电阻率更高。

总有机碳（TOC）含量：TOC 反映了水中有机物质的含量。电子级纯水的 TOC 含量通常要求非常低，一般要小于 10 ppb=1μg/L（十亿分之一），而成都渗源纯水已经能做到1ppt=1ng/L（万亿分之一）。有机物质可能会在电子元件表面形成碳膜，影响元件的性能和可靠性。

颗粒物质：水中的颗粒物质可能会附着在电子元件表面，导致元件短路或其他故障。因此，电子级纯水对颗粒物质的含量有严格限制。通常要求颗粒尺寸大于 0.1 μm 的颗粒数要极少，每毫升水中的颗粒数可能要求在几十个以下。

微生物含量：微生物的存在会对电子元件的生产和性能产生负面影响。电子级纯水的微生物含量要求非常低，一般细菌含量要低于 1 CFU/mL（colony-forming units per milliliter，每毫升形成菌落的单位数）。

金属离子含量：各种金属离子的存在会影响电子元件的性能和可靠性，特别是对于晶元薄片和超大规模集成电路等高精度电子器件。如：硅、砷、镓、碲、镉、钠、钾、铁、铜、等金属离子的含量都要控制在极低的水平，通常要求每升水中的金属离子含量在几微克甚至更低。
溶解氧含量：溶解氧可能会引起电子元件的氧化，对一些对氧化敏感的电子工艺产生不利影响。因此，电子级纯水的溶解氧含量也需要控制在较低水平，具体要求根据不同的电子工艺和生产要求而定。

pH 值：纯水的 pH 值应接近中性，一般要求在 6.5 - 7.5 之间。pH 值的偏差可能会影响电子元件的清洗效果和化学稳定性。

中国的电子级纯水标准主要参照 GB/T 11446.1-2013 系列标准 。不同的电子行业领域以及不同的生产工艺环节，对纯水的具体要求可能会有所差异，但总体上都需要满足高纯度、低杂质的要求。

成都渗源超纯水机具有极佳的耐化学特征，能够抵抗酸、碱、强氧化剂和卤素的腐蚀，通杀具有良好的机械强度，耐高温、阻燃性、耐候性与耐老化性。在半导体领域中软管用作透明管道，在晶元清洗设备中能抵抗化学试剂的腐蚀，确保设备的长期稳定运行，此外其内壁光滑不易集聚污垢和颗粒物，有助于减少污染风险。提高晶元的质量。
成都渗源一般会使用双级反渗透后纯水储存于FPR材质的氮封水箱，氮封水箱使用氮气封闭系统通过向水箱内部充满高纯度的氮气，其主要作用是防止空气中的杂质进入水箱，从而保持物质的纯度。氮气能够有效地隔离外界空气，防止止水中溶解氧、‌二氧化碳等气体的溶解和氧化反应，从而保持超纯物质的纯度和稳定性。‌此外，氮封装置通常由快速泄放阀及微压调节阀两大部分组成，以确保水箱内的压力稳定，防止因压力变化导致的物质质量下降。