半导体纯水系统在使用过程中需要注意哪些问题

水质监测方面

• 定期检测关键指标：要定时对电阻率、总有机碳（TOC）、颗粒数量、微生物含量等关键水质指标进行检测。例如，电阻率需时刻保持在大于 18MΩ.cm（25℃）的高标准范围，一旦发现指标异常下降，可能意味着系统中某个环节出现问题，需及时排查处理。
• 检测频率合理安排：对于生产工艺要求高、用水量大的情况，检测频率应更高，可能每小时甚至更短时间就要检测一次部分关键指标；而对于用水相对稳定且对水质波动不太敏感的环节，可适当延长至数小时或一天检测一次，但也绝不能忽视定期检测工作。

设备运行维护方面

• 预处理设备维护：
  • 机械过滤器需定期检查过滤介质的堵塞情况，根据压差变化适时进行反冲洗，以保证过滤效果，一般当进出口压差达到一定数值（如 0.05 - 0.1MPa）时就需反冲洗，防止因堵塞导致水流不畅影响后续处理。
  • 活性炭过滤器要关注活性炭的吸附饱和情况，定期更换活性炭，避免因吸附能力下降而无法有效去除有机物和余氯，影响后续反渗透膜等的寿命和纯水质量。
  • 软化器要及时补充或再生离子交换树脂，确保其持续具备去除钙、镁等离子的能力，防止因树脂失效出现水硬度升高的问题。
• 反渗透膜及相关组件维护：
  • 密切关注反渗透膜的运行压力、流量和脱盐率等参数，当脱盐率明显下降、产水量减少或者运行压力异常升高时，可能意味着膜受到污染或者损坏，需要及时进行化学清洗或者更换膜组件。
  • 定期对反渗透系统的高压泵、管道等进行检查，防止出现泄漏、压力异常等情况影响系统正常运行。
• 离子交换设备维护：对于离子交换树脂床，要按照树脂的使用寿命和实际运行情况，定期进行再生或者更换树脂，保证其去除离子的效果，同时要注意再生操作的规范，防止因再生剂用量不当等问题影响树脂性能。
• EDI 模块维护：
  • 监控 EDI 模块的电压、电流、水质等参数，出现水质下降、电流电压异常波动时，要排查是否有结垢、树脂性能下降或者膜损坏等问题，并及时采取相应措施，如进行化学清洗、更换损坏部件等。
  • 保证 EDI 模块运行的进水水质符合要求，避免因进水水质不佳导致模块频繁故障。
• 后处理设备维护：
  • 紫外线杀菌器要定期检查紫外线灯管的使用情况，及时更换老化或者损坏的灯管，确保杀菌效果。
  • 超滤装置要关注膜的通量变化，定期进行清洗以去除膜表面的污染物，维持稳定的过滤效果。

运行环境方面

• 温度控制：保持设备运行环境温度在合适范围，一般多数半导体纯水系统适宜的环境温度在 15℃- 35℃之间，温度过高可能影响设备性能、降低膜的使用寿命，温度过低则可能导致部分水结冰、损坏设备管道等。
• 湿度调节：环境湿度也应合理控制，湿度过高容易引发设备生锈、滋生霉菌等问题，影响设备寿命和纯水质量；湿度过低可能产生静电等隐患，对电子控制部件等造成损害，可通过除湿设备等将湿度控制在 40%-60% 左右。
• 洁净度保障：系统所在空间要保持较高的洁净度，防止灰尘、颗粒物等进入系统，影响纯水水质或者堵塞设备部件，必要时可设置空气净化设备，维持洁净的运行环境。

操作规范方面

• 人员培训：操作人员需经过专业培训，熟悉系统的工艺流程、设备操作方法、应急处理措施等，严格按照操作规程进行各项操作，避免因误操作导致设备损坏或者水质恶化等问题。
• 开关机流程：严格遵循正确的开关机顺序，开机时要依次开启预处理设备、核心处理设备（如反渗透、EDI 等）、后处理设备等，并做好各环节的参数监测和调节；关机时要按照相反顺序，进行合理的排空、冲洗等操作，防止设备内残留的水滋生细菌、结垢等。
• 药剂添加规范：在需要添加阻垢剂、酸碱调节剂等药剂的环节，要准确控制药剂的种类、用量、添加时间等，确保药剂能发挥正常作用且不会因过量添加等对水质造成不良影响。

应急处理方面

• 制定应急预案：针对可能出现的设备故障、水质突然恶化、断电等突发情况，制定完善的应急预案，明确各情况的应对措施、责任人员等，确保在突发状况下能迅速响应，减少损失。
• 应急备用设备：配备必要的应急备用设备，如备用的水泵、电源等，在关键设备出现故障时能及时替换，保障系统的基本运行，维持一定时间的纯水供应，避免对半导体生产造成长时间中断影响。