半导体反渗透纯水机水质标准

半导体行业对纯水水质要求极高， 半导体反渗透纯水机产出的水质需符合一系列严格标准，以下为您详细介绍：

1.电阻率

指标：通常要求达到 18.2MΩ・cm（25℃）。这是衡量水导电性能的指标，电阻率越高，水中的离子含量越低，水的纯度越高。
意义：半导体制造过程中，极微量的离子杂质都可能影响芯片的电性能和可靠性。例如，金属离子可能导致电路短路或信号传输异常，所以需要超纯的水来避免这些问题。

2.总有机碳（TOC）

指标：一般要控制在 10ppb 甚至更低。TOC 反映水中有机化合物的含量。
意义：在半导体制造中，有机物可能会在芯片表面形成薄膜，影响光刻、蚀刻等工艺的精度，还可能与其他化学物质发生反应，引入杂质，因此需严格控制。

3.颗粒物质

指标：每升水中大于 0.1μm 的颗粒数不超过 1 个，甚至有的工艺要求大于 0.05μm 的颗粒数都要极低。
意义：颗粒物质会在半导体制造过程中造成物理性缺陷，如划伤晶圆表面，影响芯片的性能和成品率。

4.微生物

指标：通常要求细菌含量每毫升不超过 1CFU（菌落形成单位）。
意义：微生物在水中会代谢产生有机物质和离子，同样会对半导体制造工艺和产品性能产生负面影响。

5.溶解气体

指标：例如溶解氧（DO）一般要求控制在 10ppb 以下，二氧化碳（CO₂）也需控制在较低水平。
意义：溶解气体可能参与化学反应，影响半导体材料的质量。比如，溶解氧可能导致金属部件氧化，二氧化碳会影响水的 pH 值，进而影响清洗和蚀刻等工艺。