半导体工业用纯水机组的预处理系统中，活性炭过滤器具有以下重要作用：
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去除余氯：水中的余氯会氧化破坏反渗透膜等后续处理设备中的膜结构，使反渗透膜失效，影响纯水制备系统的正常运行和出水水质。活性炭可以与余氯发生化学反应，将余氯去除，确保出水余氯量小于 0.1ppm，保护后续设备。
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吸附有机物：能吸附水中的腐殖酸等大分子和小分子有机物，可去除水中 50% 以上的有机物，降低水中的化学需氧量（COD），减少有机物对后续处理工艺的影响，比如防止有机物堵塞反渗透膜、污染离子交换树脂等，与膜过滤、TOC 去除器联合使用，可使 TOC 浓度达到 ppb 级别。
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去除胶体和色素：对水中的胶体物质和色素有明显的吸附去除作用，可去除约 60%～80% 的胶体物质，降低水的浊度和色度，使水变得澄清透明，减轻后续处理设备的负担，提高整体系统的处理效果。
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去除重金属离子：可以吸附汞、铅、镉、锌、铁、锰、铬等重金属离子，降低水中重金属的含量，满足半导体工业对纯水重金属含量极低的要求，防止重金属离子对半导体生产工艺和产品质量产生不良影响。
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保护后续系统：通过去除水中的余氯、有机物、胶体、重金属等杂质，可有效保证后级反渗透膜、离子交换树脂等设备的使用寿命，提高出水水质，防止这些杂质对后续系统造成污染和损坏，确保整个纯水机组稳定运行，为半导体生产提供高质量的纯水。
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降低 SDI 值：可以进一步降低反渗透进水的污染指数（SDI）值，保证 SDI＜5，使水质更符合反渗透等后续处理工艺的要求，提高系统运行效率和稳定性。
